Kursen ger kunskaper om optiska system och avbildningsprocesser. Kursen introducerar den paraxiala formalismen för tunna och tjocka linser samt för system av linser. En huvuddel av kursen behandlar avbildningsfel, s.k. kromatiska och monokromatiska aberrationer. För att kunna beskriva aberrationer introduceras allmänna ”ray tracing”-ekvationer. Generella uttryck för grundläggande typer av aberrationer härleds och dessa används för att beskriva uppkomst och förekomst av aberrationer i olika system. Därefter behandlas metoder och strategier för hur optiska system kan utformas så att deras bilder är fria från aberrationer eller optimeras för ett minimum av aberrationer. Kursen behandlar även diffraktionsfenomenets inverkan på bildkvalitet. Kursen innehåller laborativa moment men även design och analys av optiska system med hjälp av "ray tracing"-program.
